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                      德國韋氏納米系統(香港)有限公司

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                      PDC-32G-2Harrick 基本型等離子清洗機的詳細資料

                      等離子清洗機采用氣體作為清洗介質,有效地避免了因液體清洗介質對被清洗物帶來的二次污染。等離子表面處理機外接一臺真空泵,工作時清洗腔中的等離子體輕柔沖刷被清洗物的表面,短時間的清洗就可以使有機污染物被徹底地清洗掉,同時污染物被真空泵抽走,其清洗程度達到分子級。

                      基本型等離子清洗機廣泛應用于光學、光電子學、電子學、材料科學、生命科學、高分子科學、生物醫學、微觀流體學等領域。

                      基本型等離子清洗機應用:

                      1. 高分子材料表面修飾。

                      2. 清洗光學鏡片、電子顯微鏡片等多種鏡片和載片。

                      3. 移除光學元件、半導體元件等表面的光阻物質。

                      4. 清洗ATR元件、各種形狀的人工晶體、天然晶體和寶石。

                      5. 清洗半導體元件、印刷線路板。

                      6. 清洗生物芯片、微流控芯片。

                      7. 清洗沉積凝膠的基片。

                      8. 清洗電子元件、光學器件、激光器件、鍍膜基片、芯片。

                      9. 牙科材料、人造移植物、醫療器械的消毒和殺菌。

                      10. 改善粘接光學元件、光纖、生物醫學材料、宇航材料等所用膠水的

                      粘和力。

                      基本型等離子清洗機主要特點:

                      1. 緊湊臺式設備、沒有RF放射、符合CE安全標準。

                      2. 功率為低、中、高三檔可調。

                      3. 基本型:

                      - 清洗腔:長6.5英寸,直徑3英寸,腔蓋可拆卸;

                      - RF線圈zui大施加功率18W;

                      - 1/8NPT針孔閥控制氣流及腔體壓力;

                      - 整機尺寸:8.5英寸H × 10英寸W × 8英寸D;

                      - 重量:13 lbs;

                      4. 選配件

                      - 石英等離子清洗腔;

                      - 氣體流量混合器;

                      - 真空泵;

                       

                      參考客戶:

                      蘭州大學  鄭州大學 上海交通大學 上海復旦大學 合肥工業大學 成都電子科技大學 北京大學  清華大學

                      醫工所  蘭州化物所 中科院納米所 等等

                      我公司專業銷售Harrick Plasma產品,并提供Harrick Plasma產品的售前售后服務,如您對Harrick Plasma產品感興趣,歡迎前來咨詢!German First-Nano System (HK)Limited

                       

                      德國韋氏納米系統(香港)有限公司主要供應等離子清洗機,基本型等離子清洗機,擴展型等離子清洗機,高功率等離子清洗機等產品。

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